TruMicro
Weltpremiere feiert der neue TruMicro 7250 auf der LASER World of Photonics 2009. Der Laser arbeitet fasergeführt und ist mit seiner Wellenlänge von 515 nm und seiner hohen mittleren Leistung von 300 Watt der ideale Laser zum Einsatz in der Herstellung von Dünnschichttransistoren, Halbleitern und Flachbildfernsehern. Materialien wie etwa amorphes Silizium können mit dem TruMicro 7250 deutlich energie- und kostengünstiger bearbeitet werden als dies bislang möglich war.
Dank seiner guten Puls-zu-Puls-Stabilität können auch kleine Prozessfenster genutzt und auf großen Bearbeitungsflächen einheitliche Ergebnisse erzielt werden. Die hohe Pulsenergie von 20 mJ ermöglicht zudem die Bearbeitung großer Flächen und damit großer Rekristallisationszonen, die beispielsweise beim Annealing in der Produktion von TFT-Bildschirmen gefordert sind.
Grundlegend weiterentwickelt hat TRUMPF auch den TruMicro 7050, die Basisvariante der TruMicro Serie 7000. Bei einer hohen mittleren Leistung von bis zu 750 Watt erzeugt er Pulse mit einer Dauer zwischen 30 und 700 Nanosekunden. Dabei kann der Kunde individuell aus fünf vordefinierten Pulsdauern auswählen. Aufgrund des großen Bereichs der Pulsdauern, der maximalen Pulsenergien von 50 mJ und Pulsfrequenzen von 5 bis 100 kHz ermöglicht der TruMicro 7050 Anwendern bei zahlreichen Applikationen wie dem Dünnschichtabtragen, dem Remote-Bohren und -Schneiden eine hohe Produktivität.